CMOS Plasma and Process Damage

de

Éditeur :

Springer

Paru le : 2025-05-16

This book discusses the complex technology of building CMOS computer chips and covers some of the unusual problems that can occur during chip manufacturing. Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to th...
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À propos

Auteur

Éditeur

Collection
n.c

Parution
2025-05-16

Pages
466 pages

EAN papier
9783031890284

Auteur(s) du livre


Kirk D. Prall (M'82) was born in 1958. He received the Ph.D. degree in electrical engineering from the University of New Mexico, Albuquerque, in 1990. He worked for Philips Semiconductors from 1982 to 1991, in the areas of EPROM, ROM, microprocessors. He joined Micron, Inc., Boise, ID, in 1991 working on DRAM, NOR, NAND, and emerging memories. He retired from Micron in 2019 and is currently writing engineering books. He has published several papers and holds more than 200 patents.

Caractéristiques détaillées - droits

EAN PDF
9783031890291
Prix
126,59 €
Nombre pages copiables
4
Nombre pages imprimables
46
Taille du fichier
76216 Ko
EAN EPUB
9783031890291
Prix
126,59 €
Nombre pages copiables
4
Nombre pages imprimables
46
Taille du fichier
114176 Ko

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